基于工业机器人的抛光设备具有低成本、高自由度和高动态性能等优势，在光学制造领域颇具应用前景。然而，工业机器人较大的定位误差会导致表面波纹，制约系统性能，而目前只能通过每次加工前的测量来低效补偿这一误差。

　　该研究发现了定位误差的周期相位演化规律，并建立了双正弦函数补偿模型。研究显示：在自主研发的机器人抛光平台上，补偿后整个工作区的Z轴误差可降为±0.06mm，达到机器人重复定位误差水平；测量误差与建模误差的Spearman相关系数均在0.88以上。在实际抛光实验中，无论是图形抛光还是均匀抛光，在不同条件下，该模型均可显著抑制定位误差带来的波纹误差。此外，功率谱密度（PSD）分析表明，相应的频率误差也得到了显著抑制。上述成果为机器人抛光机提供了高效的即插即用补偿模式，并为进一步提高机器人加工精度和效率提供了新的可能性。

　　▲（a）均匀抛光过程；（b1）第一个均匀抛光表面减去初始表面；（b2）第二个均匀抛光表面减去第一个均匀抛光表面；（c）两次减法后的功率谱密度。