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　　“难”主要指技术门槛高、认证时间长，CMP工艺对不同材料的去除速率、选择比及表面粗糙度和缺陷都要求精准至纳米乃至埃（分子级），如此精准的控制需要通过精制、客制抛光液在宏观的抛光机台和抛光垫的作用下完成，其技术难度并不是只靠一个配方、某个原材料或者磨料能完成的，需要有化学、电化学、物理等多种交叉学科的知识储备，以及不同工艺在应用端的丰富经验。

　　“专”是指不同客户不同集成技术对抛光液的具体需求不同，需要客制化适配具体客户工艺的抛光液，因此客户和供应商联合开发至关重要，同时长期积累的量产经验和客户服务经验也是关键。随着集成电路技术不断推进，下游客户对抛光液的种类和用量需求都在增加，而且新技术、新衬底材料的出现也对抛光材料和抛光工艺提出了更多新的需求，抛光液下游需求越来越呈现“多”的特点。

　　因其“难”“专”“多”的特点，安集科技在实现国产替代过程中逐渐建立了技术优势，目前研发人员为151人，数量占公司总人数的比例42.65%，通过多年持续投入，已拥有一系列具有自主知识产权的核心技术。截至2022年6月30日，共拥有授权专利248项，另有237项专利申请已获受理，均为发明专利。返回搜狐，查看更多