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　　证券之星消息，根据企查查数据显示有研硅（688432）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种高品质几何参数抛光片的有蜡贴片工艺”，专利申请号为CN3.2，授权日为2024年4月16日。

　　专利摘要：本发明公开了一种高品质几何参数抛光片的有蜡贴片工艺。该工艺包括以下步骤：(1)将硅片放在一个圆形吸盘上，硅片与吸盘之间靠真空固定，吸盘与硅片的圆心重合于一点，吸盘以1000‑3000rpm的转速携带硅片旋转，此时向硅片圆心处注入0.1‑10mL液体蜡，吸盘及硅片持续旋转1‑60s，液体蜡在离心力的作用下，涂覆在硅片背表面；(2)将吸盘及硅片转速提高到3500‑5000rpm，此时向硅片圆心处注入0.1‑10mL液体蜡，吸盘及硅片持续旋转1‑60s，液体蜡在离心力的作用下，涂覆在硅片背表面；(3)经热烘箱烘烤后，粘贴在有蜡抛光专用的工装夹具上，进行有蜡抛光。本发明能够产生厚度更加均匀的蜡膜，进而制造出具有更加优异局部平整度的硅衬底抛光片，提高后道器件厂的成品率。

　　今年以来有研硅新获得专利授权6个，较去年同期增加了200%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8222.21万元，同比减2.93%。

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