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　　研磨抛光是产品获得美好外观中的重要一环，能够有效的提升产品表面质感，使工件表面粗糙度降低，改善光洁度，增强耐腐蚀性等，对产品的质量、性能产生十分重要的影响。

　　不同材质的产品根据不同的加工需求，需要用到不同的方法来进行研磨抛光。常见抛光工艺技术主要分为机械、化学、化学机械结合三大类，本文主要介绍机械抛光的几种常见分类。

　　——机械抛光是利用柔性抛光工具和磨料颗粒对工件表面进行的修饰加工和去毛刺。机械抛光是依靠非常细小的抛光粉进行磨削、滚压作用，进而达到除去工件磨面上的极薄一层金属的目的。

　　——是一种较为常见的物理抛光方法，能够有效去除工件表面的污垢、氧化层、瑕疵等。采用压缩空气或水作为动力，以形成高速喷射束将磨料颗粒（铜矿砂、石英砂、金刚砂、铁砂、海砂）高速喷射到需处理工件表面，使工件表面的外表或形状发生变化。

　　由于磨料对工件表面的冲击和切削作用，使工件的表面获得一定的清洁度和不同的粗糙度，使工件表面的机械性能得到改善，因此提高了工件的抗疲劳性，增加了它和涂层之间的附着力，延长了涂膜的耐久性，也有利于涂料的流平和装饰。

　　——是一种抛光去毛刺工艺，又称为流体抛光，是使磨粒流通过零件的某些部位，对通道面和边角进行去毛刺、抛光和倒圆的过程，还能够起到清洁和润滑的作用，有助于降低表面摩擦、防止过热，作业时需要用流体搅拌装置和专用抛光机设备。

　　主要针对内孔、微细孔、不规则形状、球面曲面、齿轮等，以效率高、抛光去毛刺彻底、不伤工件而著称，但不适合尺寸特别大的东西。

　　磨粒流的磨粒包括碳化硅、氧化铝、金刚石和其他专用磨料。不同种类的磨砂、粒度、密度以及载体的粘度，可以产生不同的研磨效果。

　　——工件与研磨介质接触的同时施加压力的一种抛光工艺，通常用于在平面或曲面上实现高精度和均匀的抛光。通常使用抛光轮搭配抛光蜡（浆）进行抛光。

　　当施加到浆料上的剪切应变率超过临界值时，STP浆料的流变特性会发生变化，浆料粘度急剧上升后转变为可适应各种曲面抛光的柔性磨具。简单描述即使磨料颗粒与流体（气体或液体）混合，形成磨料射流冲击工件表面，一般用于光学应用的石英玻璃抛光，可使用胶体二氧化硅和胶体氧化铈作为磨粒。

　　——动态摩擦抛光（Dynamic Friction Polishing，DFP）是一种纳米抛光技术，它利用磨粒在工件表面上的高速运动产生摩擦热和局部压力，从而实现工件表面的抛光和修整。

　　动态摩擦抛光的基本原理是通过将磨粒粘结在弹性材料上，然后将这些磨粒高速运动到工件表面上，从而产生摩擦热和局部压力。这些磨粒的运动可以在高速下进行，以实现高效抛光。，利用由金刚石和金属盘之间的动摩擦引起的热化学反应，通过以预定压力将金刚石复合体压到高速旋转的金属盘上以产生动摩擦来抛光金刚石复合体。

　　——磁流体抛光（Magnetic Fluid Polishing，MFP）是一种先进的加工技术，它利用磁性颗粒在磁场作用下的运动实现对工件表面的抛光。

　　磁流体抛光的基本原理是将磁性颗粒、表面活性剂和其他添加剂按一定比例分散在基载液中，形成磁流变液。在磁场作用下，磁性颗粒在工件表面形成链状或纤维状排列，导致整个流体的粘度增大，表现出类固体的特性。通过高速流动的磁流变液与工件表面之间的摩擦运动，可以实现工件表面的抛光。

　　磁流体抛光的优点包括高精度、高效率、低成本等。它适用于各种材料，如金属、陶瓷、玻璃等，广泛应用于微电子、光学、机械等领域。此外，磁流体抛光还可以与其他加工技术结合使用，如电解抛光、化学抛光等，以获得更好的抛光效果。

　　——磨料颗粒涡流抛光（Abrasive Particle Eddy Current Polishing，APECP）是一种金属表面抛光技术，它利用涡流作用和磨料颗粒的配合，实现对金属表面的抛光。

　　磨料颗粒涡流抛光的基本原理是在金属表面产生涡流，该涡流会在金属表面产生一个强大的磁场，从而使磨料颗粒在磁场作用下高速运动，对金属表面进行抛光。APECP技术可以去除金属表面几微米或1丝左右的缺陷，实现金属表面的快速研磨光整。

　　APECP技术适用于各种金属材料，如不锈钢、铝、铜等，广泛应用于机械、航空、化工等领域。与传统的机械抛光和化学抛光方法相比，APECP技术具有更高的加工效率和更好的表面质量，同时减少了环境污染和资源浪费。