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抛光液和抛光垫是CMP抛光工艺的核心材料。抛光液和抛光垫是CMP工艺的两大关键要素,二者皆属于易耗品,且价值量高,二者分别占据抛光材料成本的49%和33%,其他抛光材料还包括抛光头、研磨盘、检测设备、清洗设备等。
就市场规模而言,根据Mordor Intelligence数据,全球抛光液市场规模自2018年开始回升,2020年达13.4亿美元,受益于下游晶圆需求上升,我国抛光液市场前景广阔。
华经产业研究院对中国抛光液行业发展现状、行业上下游产业链、竞争格局及重点企业等进行了深入剖析,最大限度地降低企业投资风险与经营成本,提高企业竞争力;并运用多种数据分析技术,对行业发展趋势进行预测,以便企业能及时抢占市场先机;更多详细内容,请关注华经产业研究院出版的《2022-2027年中国抛光液市场全景评估及投资规划建议报告》。
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