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　　据韩媒 ETNews 27 日披露，SK 海力士成功研发可重复使用的 CMP 抛光垫技术，此举既降本又有利于提升环境、社会、治理（ESG）效果。

　　需要指出的是，CMP 技术通过化学与机械作用使得待抛光材料表面达到所需平滑程度。其中，抛光液中化学物质与材料表面发生化学反应，生成易于抛光的软化层。抛光垫和研磨颗粒则负责物理机械抛光，清除这一软化层。

　　在 CMP 制程中，抛光垫发挥着重要功能。譬如，它使抛光液能在加工区域均匀分布并提供补充抛光液实现循环，同时迅速清除工件抛光面上的残余物以及施加用于材料去除的机械载荷，以及保持抛光所需的机械和化学环境。此外，抛光垫的表面组织特征如微孔、孔隙率及沟槽形状等，也可通过影响抛光液流动和分布进而影响抛光效率和平坦性。

　　为了实现抛光垫的重复利用，SK 海力士采取了 CMP 抛光垫表盘纹理重建策略。目前，韩国约 70%的 CMP 抛光垫来自海外，对外依存度高。此次技术突破有望助力韩国半导体产业实现更高程度的自给自足。

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